3月8日午后，A股半导体、光刻胶概念股联袂走强，容大感光(300576.SZ)20CM涨停，佰维存储(688525.SH)、金力泰(300225.SZ)涨超14%，苏大维格(300331.SZ)、南大光电(300346.SZ)、晶方科技(603005.SH)等纷纷冲高。
消息面上，市场再次传闻海外大厂对国内某存储IDM公司断供KrF光刻胶（此前曾多次传闻断供）。
此外，3月2日国务院副总理刘鹤指出，习近平总书记高度重视集成电路产业发展。集成电路是现代化产业体系的核心枢纽，关系国家安全和中国式现代化进程，刘鹤强调发展集成电路产业必须发挥新型举国体制优势，用好政府和市场两方面力量。
光刻胶是晶圆制造重要材料，承担“图形转移”重任。
光刻胶种类繁多，专用性强。光刻的线宽极限和精度决定了集成电路的集成度、可靠性和成本，因此摩尔定律推动光刻胶技术不断加速迭代。同时光刻胶行业具备技术、客户、设备及原料四大高壁垒。
光刻胶市场不断扩容，高端光刻胶亟需国产替代。
随着下游半导体、LCD和PCB三大领域的高速发展，Reportlinker数据预计光刻胶市场亦将持续扩容，2022年有望超百亿。
我国光刻胶产品以中低端为主，技术难度较高的半导体领域的KrF、ArF光刻胶则几乎全部依赖进口，被日美垄断，亟需国产替代。
以史为鉴产业链协同是关键，全产业链自主可控进步加速国产化。
复盘日本光刻胶产业崛起关键因素为上下游协同发展，对比我国光刻胶产业全产业链自主可控不断突破：
（1）下游伴随半导体和LCD产业不断向国内转移，驱动配套光刻胶需求提升。
（2）中游政策不断利好，国内企业进入高端光刻胶量产和规模出货阶段，国产化加速。
（3）上游原料和设备虽然被外企垄断，但国内部分企业积极投入研发，已有所突破，全产业链自主可控进步将加速光刻胶国产替代。
外企断供风险加剧，高端光刻胶迎来国产发展良机。
去年11月份市场有消息称美国杜邦、陶氏、德国AZ、日本TOK或将断供包括高端光刻胶KrF、ArF在内的部分半导体材料。日美企业厂商占据国内高端光刻胶市场大部分份额，一旦断供，国内多家晶圆厂或将面临光刻胶缺货风险，将主动或被动的快速导入国产光刻胶，国内企业迎来高端光刻胶国产替代良机。
行业投资策略上关注：（1）光刻胶研发突破；（2）光刻胶品类扩展；（3）光刻胶产能规划；（4）光刻胶原材料自主可控进展；（5）光刻机突破情况。
那么，光刻胶板块龙头股有哪些？
重点关注具备先发优势和产业链一体化优势的企业：华懋科技，彤程新材，晶瑞电材，南大光电，上海新阳等。
光刻胶概念股龙头一览表：
华懋科技(603306.SH)：
子公司徐州博康产品涵盖半导体的I线、ArF、KrF及电子束光刻胶及上游单体、树脂、光引发剂等领域，且相关技术和工艺不断突破。在ArF光刻胶领域，有23款处于研发改进阶段；2022年上半年，形成销售的ArF光刻胶有2款。在ArF光刻胶领域，有23款处于研发改进阶段；2022年上半年，形成销售的KrF光刻胶有13款。I线光刻胶有15款处于研发改进阶段，2022年上半年，形成销售的I线光刻胶有9款。除此之外，徐州博康已研发60多款光刻胶单体、50多款光刻胶树脂以及超过100款的光引发剂。
彤程新材(603650.SH)：
KrF和I线光刻胶是子公司北京科华目前的核心光刻胶产品，其中，G线、I线光刻胶已实现量产供货，I线光刻胶能提供0.3µm以上产品，KrF光刻胶能提供0.11µm以上产品。实现了普通I线光刻胶，高分辨I线光刻胶，化学放大型I线光刻胶，普通KrF光刻胶，高分辨KrF光刻胶，KrF负性光刻胶，厚膜KrF光刻胶等产品大批量稳定供货（8-12英寸产线）。ArF高端光刻胶研发平台建设项目”预计于2023年末建设完成，且与中科院联合承担的国家02专项EUV光刻胶项目已通过国家验收。公司拥有中高档光刻胶生产基地，分别有百吨级环化橡胶系紫外负性光刻胶和千吨级负性光刻胶配套试剂生产线、G/I线正胶生产线（500吨/年）和正胶配套试剂生产线（1000吨/年）、百吨级248nm光刻胶生产线。
晶瑞电材(300655.SZ)：
子公司苏州瑞红产品主要应用于半导体及显示面板领域。目前已拥有负型光刻胶系列、宽谱正胶系列、G线系列、I线光刻胶系列、KrF光刻胶系列等数十个型号产品。其中，紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分G线等高端产品已规模供应市场数十年；I线光刻胶已向国内中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货；高端KrF光刻胶已完成中试，KrF光刻胶生产及测试线目前已经基本建成，争取今年批量供货；ArF高端光刻胶研发工作已启动，已完成光刻机、匀胶显影机、扫描电镜、台阶仪等设备购置，研发工作正在有序开展中。
南大光电(300346.SZ)：
2020年底，南大光电自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户认证，成为通过产品验证的第一家国产ArF光刻胶企业。南大光电的ArF光刻胶可达90nm-14nm的集成电路工艺节点，ArF光刻胶产品正在多家下游客户处进行验证，已分别通过一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台和一家逻辑芯片制造企业55nm技术节点上验证。同时其在今年透露，ArF光刻胶有小批量订单，尚未规模量产。公司目前已建成25吨产能的ArF光刻胶生产线。
上海新阳(300236.SZ)：
上海新阳则主攻KrF和干法ArF光刻胶，已经进入产能建设阶段。2021年6月，上海新阳宣布，该公司自主研发的KrF（248nm）厚膜光刻胶产品通过了客户认证，并成功取得订单。目前，公司EUV光刻胶基本的研发工作正在进行中；ArF、ArF-i、ArF浸没式光刻胶进入样品测试阶段；KrF光刻胶已有订单客户超3家。
版权声明
本文仅代表作者观点，不代表本站立场。
本文系作者授权，未经许可，不得转载。
